Ionbond™ 90 Concept

用于要求严格的金属成型应用领域的新一代物理气相沉积（PVD）涂层

Ionbond™ 90 Concept是新一代的物理气相沉积（PVD）涂层，为各种金属成型应用领域，特别是要求严格的冷成型应用领域提供了优越的涂层性能。在机械疲劳的情况下结合了高硬度，低摩擦系数以及优越的抗裂性能使Ionbond™ 90 Concept能够为传统的物理气相沉积（PVD）涂层，例如：氮化钛（ TiN），碳氮化钛（TiCN），氮化铝钛（TiAlN），氮化铬（CrN）以及氮化钛铬（TiCrN）提供优越的涂层性能。考虑到Ionbond™ 90 Concept 能够为这些解决方案提供类似或优越的性能，它也是替代化学气相沉积（CVD）涂层或热扩散法碳化物覆层处理（TD）涂层的可行解决方案。

Ionbond™ 90 Concept 的目标领域是要求最严苛的金属成型应用领域。这些应用领域包括先进高强度钢以及奥氏体不锈钢合金的冲孔与成型，冷锻，精冲粉末金属压实以及低碳合金钢的（厚度超过2mm）成型。

Ionbond™ 90 Concept通常是在400-500 °C的条件下沉积形成。这些处理温度要求工具的材质经过更高温度的回火处理以避免材质的软化或尺寸变化。在需要额外机械支持的应用领域中，它可以很容易地与离子或低压渗氮相结合。